白光干涉仪凭借独特优势，为光刻图形测量提供了可靠手段

传统光刻工艺

传统 Micro OLED 阳极像素定义层制备常采用光刻剥离工艺。首先在基板上沉积金属层作为阳极材料，接着旋涂光刻胶，通过掩模版曝光使光刻胶发生光化学反应，随后进行显影，去除曝光或未曝光部分的光刻胶。最后通过剥离工艺，将未被光刻胶保护的金属层去除，从而形成阳极像素定义层。但此方法存在缺陷，光刻胶剥离过程中易残留杂质，影响像素电极的导电性和稳定性，且工艺复杂，成本较高 。